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行業(yè)權(quán)威媒體|硅基Micro LED的技術(shù)路線與產(chǎn)業(yè)化未來(lái),干貨來(lái)襲

時(shí)間:2023-05-04 來(lái)源:新型顯示產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟 芯視顯 點(diǎn)擊:1172


前言

晶能光電/郭嘯/研發(fā)經(jīng)理,受邀出席《2023國(guó)際Mini/Micro技術(shù)應(yīng)用大會(huì)》,做《硅基Micro LED的技術(shù)路線與產(chǎn)業(yè)化未來(lái)》主題分享,干貨滿滿,小編為大家一一梳理。


4月20日,由新型顯示產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟、芯視顯主辦的‘’創(chuàng)新協(xié)行,聚勢(shì)共贏‘’《2023國(guó)際Mini/Micro技術(shù)應(yīng)用大會(huì)》在深圳光明云谷國(guó)際會(huì)議中心成功舉辦。400+車載顯示、醫(yī)療顯示、商業(yè)顯示、IT顯示、XR元宇宙顯示上下游產(chǎn)業(yè)鏈領(lǐng)軍企業(yè)齊聚一堂?,針對(duì)現(xiàn)階段焦點(diǎn)話題展開(kāi)研討。


晶能光電/郭嘯/研發(fā)經(jīng)理,受邀出席,做《硅基Micro LED的技術(shù)路線與產(chǎn)業(yè)化未來(lái)》主題分享,與業(yè)內(nèi)專家學(xué)者共話技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)發(fā)展。


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01
?走進(jìn)晶能光電·近20年持續(xù)深耕硅襯底技術(shù)


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晶能光電創(chuàng)立于2006年,是具有底層芯片核心技術(shù)的全產(chǎn)業(yè)鏈IDM半導(dǎo)體光電產(chǎn)品提供商,為全球客戶提供高品質(zhì)的LED(外延、芯片、封裝和模組)光源和感知傳感器件產(chǎn)品和解決方案。


晶能光電是全球硅襯底GaN技術(shù)的領(lǐng)導(dǎo)者之一,在全球率先實(shí)現(xiàn)了硅襯底GaN技術(shù)在LED領(lǐng)域的產(chǎn)業(yè)化,歷經(jīng)近20年在硅襯底LED技術(shù)的深耕與沉淀,現(xiàn)已成為全球最大的硅襯底GaN基LED?制造企業(yè)。

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02
?挑戰(zhàn)與實(shí)踐·大尺寸硅襯底Micro LED


據(jù)經(jīng)理介紹,與藍(lán)寶石襯底相比,硅襯底在Micro LED產(chǎn)業(yè)化中的優(yōu)勢(shì)為:大尺寸、低成本、高波長(zhǎng)一致性、無(wú)損去除、低翹曲、CMOS兼容性。大尺寸硅襯底GaN LED技術(shù)已經(jīng)成為開(kāi)發(fā)面向AR微顯Micro LED的主流路線。



關(guān)于AR,所采用的Micro LED技術(shù)仍存在諸多挑戰(zhàn),郭經(jīng)理做如下總結(jié):1.Micro LED的有效EQE仍有待提升,加上和光波導(dǎo)的耦合效率低,導(dǎo)致功耗偏高;2.生產(chǎn)成本高,生產(chǎn)良率很低;3.像素間亮度一致性差;4.灰度響應(yīng)/亮度漸變效果差;5.尚無(wú)理想的全彩方案。


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技術(shù)的提升與需求的釋放,帶動(dòng)硅襯底LED技術(shù)迎來(lái)新一輪機(jī)會(huì)增長(zhǎng)點(diǎn),尤其在ADB矩陣車燈、Mini LED RGB直顯、AR微顯示器、車載HUD等新興領(lǐng)域。

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03
?晶能方案·Micro LED產(chǎn)業(yè)化的特色與優(yōu)勢(shì)


1).全色系。晶能光電針對(duì)Micro LED,開(kāi)發(fā)了365nm~650nm全色系8英寸硅襯底LED外延片,在外延參數(shù)、光效、一致性、可靠性等關(guān)鍵指標(biāo)上進(jìn)行了全方位優(yōu)化;


2).大尺寸。8inch RGB InGaN LED EPI,可提供標(biāo)準(zhǔn)厚度8inch CMOS匹配外延。?

大尺寸硅襯底LED(8英寸)具有成本和IC兼容性,在AR、Mini直顯、車載等方向有巨大的應(yīng)用潛力;


3).高質(zhì)量。1.采用異質(zhì)外延的應(yīng)力積累和釋放模型優(yōu)化生長(zhǎng),創(chuàng)新的利用晶格應(yīng)力誘導(dǎo)位錯(cuò)反應(yīng),在總外延層厚度5微米條件下,可以穩(wěn)定重復(fù)的生長(zhǎng)位錯(cuò)密度~1.5E8/cm2的硅襯底GaN外延層;2.采用薄buffer技術(shù),獲得超過(guò)8微米的GaN外延,膜厚均勻性好;


4).高光效。紅光LED是Micro LED技術(shù)的重大瓶頸之一,隨著產(chǎn)學(xué)研界廣泛的開(kāi)發(fā)投入,不斷有新的方向和工藝設(shè)備升級(jí),晶能光電和業(yè)界同仁一起在外延參數(shù)、光效、一致性、可靠性等關(guān)鍵指標(biāo)上進(jìn)行了全方位優(yōu)化,歷經(jīng)了長(zhǎng)期市場(chǎng)考驗(yàn);


5).單芯片動(dòng)態(tài)調(diào)光。晶能光電進(jìn)行了10微米pixel SAG研發(fā),并且實(shí)現(xiàn)點(diǎn)亮。并在單像素上集成RGB三色外延芯片,實(shí)現(xiàn)單芯片動(dòng)態(tài)調(diào)光。


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04?多元應(yīng)用·硅襯底的實(shí)踐與落地應(yīng)用


1) Mini RGB直顯。晶能光電Mini?RGB直顯芯片4.2mil*4.2mil已經(jīng)完成開(kāi)發(fā)并供貨,更小尺寸(4mil*4mil)持續(xù)開(kāi)發(fā)中;


2) AR陣列技術(shù)。晶能光電2022年成功制備了12 um pitch 像素矩陣;并于2023年成功制備了5 um pitch 像素矩陣,后續(xù)將發(fā)布帶驅(qū)動(dòng)的RGB三色陣列。晶能光電優(yōu)先著力Micro LED微顯示研究,應(yīng)用AR/HMD/HUD/高密度矩陣車燈等方向,硅基GaN與硅基CMOS驅(qū)動(dòng)電路進(jìn)行晶圓級(jí)邦定,去除硅襯底后在CMOS晶圓繼續(xù)GaN芯片工藝。


3) LED矩陣車燈。作為過(guò)渡方案,外置IC的硅基集成矩陣大燈已經(jīng)商用。晶能光電推出交互式車用Mini RGB直顯屏,集成矩陣大燈的尺寸只有傳統(tǒng)的SMT矩陣大燈的1/16,可以顯著降低光學(xué)系統(tǒng)的體積和成本,緊湊的尺寸使得車燈更小、更輕、能效更高。


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來(lái)源:?新型顯示產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟?芯視顯

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